半導(dǎo)體行業(yè)超純水去“硼”是關(guān)鍵
半導(dǎo)體的生產(chǎn)需要經(jīng)過8個(gè)主要工序。超純水主要用于半導(dǎo)體制造中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切割晶圓并用超純水清洗殘余碎片。或者，在離子注入過程之后，清潔殘余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切割。
超純水是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的洗滌劑。那么，在半導(dǎo)體生產(chǎn)中使用超純水會(huì)有什么影響呢?在用納米超精細(xì)工藝處理半導(dǎo)體時(shí)，如果在各種工藝前后留下一個(gè)小顆粒，則會(huì)導(dǎo)致誤差。因此，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以確保清潔度并提高半導(dǎo)體生產(chǎn)率(輸出)。
隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展，對(duì)清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴(yán)格。由于超純水在許多指標(biāo)上對(duì)半導(dǎo)體的要求很高，因此半導(dǎo)體行業(yè)的超純水與其他行業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超純水有極其嚴(yán)格的水質(zhì)要求。目前，我國常用的超純水標(biāo)準(zhǔn)有國家標(biāo)準(zhǔn)《電子級(jí)水》(GB/T 11446.1-2013)和美標(biāo)。
在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過量會(huì)使n型硅反轉(zhuǎn)，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。硼離美標(biāo)中e1.3中要求小于0.05。如果硼離子含量能夠達(dá)到較低的指標(biāo)，則必然會(huì)提高半導(dǎo)體的性能。
Huncotte系統(tǒng)選用核級(jí)樹脂，可通過獨(dú)特的靶向離子交換樹脂有效控制系統(tǒng)出水的硼離子含量。采用IPC-MS檢測(cè)硼離子含量，并對(duì)硼離子流出物進(jìn)行分析≤ 0.005μG/L遠(yuǎn)低于美標(biāo)E1.3中要求的硼離子含量。
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