雙級反滲透系統(tǒng)回用硅片清洗廢水
近年來,硅片產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。硅片是制造晶體管和集成電路的原材料。換句話而言,就是硅片是芯片制造的原材料。通常是晶硅的切片,通過光刻和離子注入的方法制成各種半導體器件,是半導體工業(yè)中重要的原材料。隨著硅片工業(yè)的蓬勃發(fā)展,環(huán)境污染問題隨之而來,產(chǎn)生了大量的廢水。生產(chǎn)廢水主要來自多晶硅錠切片過程的清洗環(huán)節(jié)。多晶硅錠經(jīng)混酸表面處理后,在清洗過程中產(chǎn)生含酸廢水。由于表面處理是硝酸和氫氟酸的混合酸,清洗廢水中的主要污染物是pH、氟化物和鈣鹽。

采用雙級反滲透系統(tǒng)對清洗廢水進行深度處理。通過預處理降低鈣離子和氟離子含量后,可滿足超濾系統(tǒng)進水要求。廢水進入超濾系統(tǒng),超濾產(chǎn)水進入一級反滲透處理系統(tǒng),產(chǎn)水進入產(chǎn)水箱,濃水進入二級反滲透系統(tǒng)進一步回收。
膜法硅片清洗廢水處理工藝:
硅片清洗廢水→預處理→超濾→一級反滲透→二級反滲透→產(chǎn)水
兩級反滲透系統(tǒng)法回用硅片清洗廢水中醋酸的過程是純物理常溫操作工藝,無化學反應,能耗低。整套反滲透系統(tǒng)可設計在線再生清洗排污裝置,降低勞動強度和生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。反滲透系統(tǒng)總回收率控制在75%左右,實現(xiàn)有效回收。膜元件填充面積大,系統(tǒng)占地面積小,便于技術改造、擴建或新建項目,降低了生產(chǎn)成本和投資。
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